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紫外臭氧清洗機

紫外臭氧清洗機

簡要描述:應(yīng)用范圍:PCE-22-LD是一款可加熱的紫外臭氧清洗機,其加熱溫度可達150℃。此款設(shè)備可用于清洗各種基片,為制作高質(zhì)量的薄膜打好基礎(chǔ)。特別適合移除光刻膠,改善表面潤濕性,清洗SEM&TEM,紫外對聚合物改性等。紫外臭氧清洗提供了一種無酸、干燥對材料無損傷的原子級別清洗手段,特別適合清除一些有機化合物,紫外燈主要發(fā)出兩種波長的光:185nm和254nm,其中185nm的光可把空氣中的氧氣變?yōu)槌魵?/p>

產(chǎn)品型號: PCE-22-LD

所屬分類:鈣鈦礦太陽能電池制備

更新時間:2024-11-06

廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

詳情介紹
PCE-22-LD是一款可加熱的紫外臭氧清洗機,其加熱溫度可達150℃。此款設(shè)備可用于清洗各種基片,為制作高質(zhì)量的薄膜打好基礎(chǔ)。特別適合移除光刻膠,改善表面潤濕性,清洗SEM&TEM,紫外對聚合物改性等。紫外臭氧清洗提供了一種無酸、干燥對材料無損傷的原子級別清洗手段,特別適合清除一些有機化合物,紫外燈主要發(fā)出兩種波長的光:185nm和254nm,其中185nm的光可把空氣中的氧氣變?yōu)槌魵猓?54nm可以破壞化合物中的鍵(特別是碳碳鍵)。所以這兩種波長的光組合可有效的清除有機化合物。
功能特點
  • 僅室內(nèi)使用;海拔高度5500英尺以內(nèi);

  • 溫度范圍:5-40℃;

  • 最大相對濕度80%,最高30.5℃,40℃線性降至50%相對濕度;

  • 主電源波動不超過額定電壓的10%;

  • 污染等級2;臭氧水平(環(huán)境)測量<45ppb;

  • 可去除分子級別的污染物;

  • 可清洗MEMS器件;

  • 可清洗各種基片,如si,Ge,GaAs和各種氧化物單晶基片。

紫外臭氧清洗機

技術(shù)參數(shù)
電源單相AC220V±10%,頻率:50Hz/60Hz,功率約1KW
工作環(huán)境室內(nèi)使用,溫度:5~40℃,最大相對濕度80%,海拔5500英尺以內(nèi)
腔體&樣品臺不銹鋼殼體
紫外臭氧清洗機

抽屜式樣品臺,以便放樣取樣
基片臺尺寸:310mm*320mm
臭氧通風裝置安裝在腔體上
樣品臺與紫外燈的距離:20mm-40mm范圍內(nèi)可調(diào)
樣品臺可以加熱,最高溫度可達150℃
可設(shè)置8段升降溫程序,控溫精度為±1℃
照射設(shè)定時間:1min-9999min
觸摸屏&加熱4.5英寸觸摸屏控制加熱和清洗功能
點擊觸摸屏上的“溫控程序"即可進入程序設(shè)置界面,內(nèi)置溫控儀表采用PID方式調(diào)節(jié),可設(shè)置30段升溫程序,設(shè)備只顯示8段升溫程序,可根據(jù)實際要求進行添加
設(shè)備加熱前需進行預(yù)熱處理
排氣口直徑為80mm的排氣口安裝在儀器后端
將鋁波紋管與排氣口連接,將臭氧排出到實驗室外
橡膠管長度8米
紫外臭氧清洗機
紫外燈UV燈管:
功率:210W
發(fā)出光的波長:254nm和185nm
照射區(qū)域:200*200mm
可以清潔直徑最大為12英寸×35mm的晶體晶片
外形尺寸約L550*W520*H335mm
重量約30kg





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