紫外臭氧清洗機
簡要描述:應(yīng)用范圍:PCE-22-LD是一款可加熱的紫外臭氧清洗機,其加熱溫度可達150℃。此款設(shè)備可用于清洗各種基片,為制作高質(zhì)量的薄膜打好基礎(chǔ)。特別適合移除光刻膠,改善表面潤濕性,清洗SEM&TEM,紫外對聚合物改性等。紫外臭氧清洗提供了一種無酸、干燥對材料無損傷的原子級別清洗手段,特別適合清除一些有機化合物,紫外燈主要發(fā)出兩種波長的光:185nm和254nm,其中185nm的光可把空氣中的氧氣變?yōu)槌魵?/p>
產(chǎn)品型號: PCE-22-LD
所屬分類:鈣鈦礦太陽能電池制備
更新時間:2024-11-06
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
詳情介紹
PCE-22-LD是一款可加熱的紫外臭氧清洗機,其加熱溫度可達150℃。此款設(shè)備可用于清洗各種基片,為制作高質(zhì)量的薄膜打好基礎(chǔ)。特別適合移除光刻膠,改善表面潤濕性,清洗SEM&TEM,紫外對聚合物改性等。紫外臭氧清洗提供了一種無酸、干燥對材料無損傷的原子級別清洗手段,特別適合清除一些有機化合物,紫外燈主要發(fā)出兩種波長的光:185nm和254nm,其中185nm的光可把空氣中的氧氣變?yōu)槌魵猓?54nm可以破壞化合物中的鍵(特別是碳碳鍵)。所以這兩種波長的光組合可有效的清除有機化合物。
功能特點 |
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僅室內(nèi)使用;海拔高度5500英尺以內(nèi);
溫度范圍:5-40℃;
最大相對濕度80%,最高30.5℃,40℃線性降至50%相對濕度;
主電源波動不超過額定電壓的10%;
污染等級2;臭氧水平(環(huán)境)測量<45ppb;
可去除分子級別的污染物;
可清洗MEMS器件;
可清洗各種基片,如si,Ge,GaAs和各種氧化物單晶基片。
紫外臭氧清洗機
技術(shù)參數(shù) | |
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電源 | 單相AC220V±10%,頻率:50Hz/60Hz,功率約1KW |
工作環(huán)境 | 室內(nèi)使用,溫度:5~40℃,最大相對濕度80%,海拔5500英尺以內(nèi) |
腔體&樣品臺 | 不銹鋼殼體 抽屜式樣品臺,以便放樣取樣 基片臺尺寸:310mm*320mm 臭氧通風裝置安裝在腔體上 樣品臺與紫外燈的距離:20mm-40mm范圍內(nèi)可調(diào) 樣品臺可以加熱,最高溫度可達150℃ 可設(shè)置8段升降溫程序,控溫精度為±1℃ 照射設(shè)定時間:1min-9999min |
觸摸屏&加熱 | 4.5英寸觸摸屏控制加熱和清洗功能 點擊觸摸屏上的“溫控程序"即可進入程序設(shè)置界面,內(nèi)置溫控儀表采用PID方式調(diào)節(jié),可設(shè)置30段升溫程序,設(shè)備只顯示8段升溫程序,可根據(jù)實際要求進行添加 設(shè)備加熱前需進行預(yù)熱處理 |
排氣口 | 直徑為80mm的排氣口安裝在儀器后端 將鋁波紋管與排氣口連接,將臭氧排出到實驗室外 橡膠管長度8米 |
紫外燈 | UV燈管: 功率:210W 發(fā)出光的波長:254nm和185nm 照射區(qū)域:200*200mm 可以清潔直徑最大為12英寸×35mm的晶體晶片 |
外形尺寸 | 約L550*W520*H335mm |
重量 | 約30kg |
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